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清洗安全操作规范：

(1)**废液和无机废液要回收严格分开，放入不同密封箱里；

(2)丙酮、异丙醇和去胶液的温度已经固定，不得随意更改。如确有需要，向领班汇报，酸腐蚀机，等待上级批准；

(3)硫酸和双氧水混合溶液一定要等到冷却到30°C以下才能回收；

(4)溶液配制或回收时，溅到操作台上的溶液一定要用水冲干净，再用氮气*枪吹干，保持工作台的清洁、干净。

RCA清洗法  ：

      较初，人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年，酸腐蚀， RCA（美国无线电公司）研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法，酸腐蚀哪家好，并将其应用于 RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础，以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于较初的RCA清洗法。

单晶片清洗 ：

      大直径晶片的清洗采用上述方法不好保证其清洗过程的完成，通常采用单晶片清洗法，酸腐蚀质量，其清洗过程是在室温下重复利  用DI-O 3/DHF清洗液，臭氧化的DI水（DI-O3 ）产生氧化硅，稀释的HF蚀刻氧化硅，同时清除颗粒和金属污染物。