清洗的注意事项:
(1)当有酸性或强腐蚀性溶液(硫酸、双氧水)不小心溅到皮肤上时,应立即用无尘布(或无尘纸)轻轻擦掉。然后用清水冲洗。 (2)当吸入过量**物(丙酮、异丙醇),感到头晕、恶心时。一定要向班报告,情形严重的立即就医。
清洗安全操作规范:
(1)操作前,一定要检查工作台通风是否良好,酸腐蚀,如有异常,酸腐蚀哪家好,向上级汇报或向动力**部门说明情况,请求调整;
(2)在通风橱里开启药品,酸腐蚀设备,并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套;
(3)试剂开启前,都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶;
(4)拧开药品盖后,取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶,酸腐蚀机,在倾倒药品时,一定要确定塑封膜是否在瓶上。
半导体清洗机湿式清洗制程中,主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项,晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备,清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污,以达到半导体组件电气特性的要求与可靠度。