半导体清洗机|苏州晶淼半导体|半导体

清洗安全操作规范：

(1)操作前，江苏半导体湿法设备，一定要检查工作台通风是否良好，如有异常，向上级汇报或向动力**部门说明情况，半导体，请求调整；

(2)在通风橱里开启药品，苏州半导体清洗机，并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套；

(3)试剂开启前，都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶；

(4)拧开药品盖后，取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶，在倾倒药品时，一定要确定塑封膜是否在瓶上。

氨水加氧化剂清洗液

 　 氨水加氧化剂清洗液配方为: NH4OH∶H2O2∶H2O=1∶10∶10~1∶20∶20，半导体清洗机，温度为25~40℃，时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性、氧化性和络合性，可以发生氧化反应、产生微蚀刻作用，以达到去除表面颗粒的目的，可以去除一些**污染物及部分重金属离子污染物。