清洗机|苏州晶淼半导体|晶片清洗机

与此同时，圆晶清洗机，专业化，清洗机，规模化的洗涤公司遍及大街小巷．大大小小的专业家庭清洁．保洁公司大量出现，民用清洗领域呈现商业化。专业化运作的局面． 随着我国国民经济的持续高速发展．人们对日常生活质量提出了更高的要求，从远古以来．人类就了解和掌握了一些与自身有关的清洗知识．在古代，人们除了用清水去除沾附在身体和衣物上的泥沙之外，清洗机哪家有，还知道用草木灰去除衣物上的油性污垢．纯碱和肥皂是人类至今仍然在大量使用的历史较为悠久和普遍的清洗用品．

硅片腐蚀利用氢氧化钠对多晶硅腐蚀作用，晶片清洗机，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用氢氧化钠对硅腐蚀的各向异性，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：①现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片，金刚砂硬度很高，会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除，会影响太阳电池的填充因子。②氢氧化钠俗称烧碱，是在国民经济生产中大量应用化工产品。由电解食盐水而得，价格比较便宜，每500克6元。化学反应方程式为：2NaCl + 2H2O ==通电== 2NaOH + Cl2↑ + H2↑ 。分析纯氢氧化锂、氢氧化钾也可以与硅起反应，但价格较贵。如氢氧化锂每500克23元，用于镉-镍电池电解液中。③碱性腐蚀优点是反应生成物无毒，不污染空气和环境。不像HF-HNO3酸性系统会生成有毒的NOx气体污染大气。另外，碱性系统与硅反应，基本处于受控状态。有利于大面积硅片的腐蚀，可以保证一定的平行度。