清洗|苏州晶淼半导体|显影清洗台

硅片腐蚀利用氢氧化钠对多晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用氢氧化钠对硅腐蚀的各向异性，清洗机哪家好，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：①现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片，显影清洗机，金刚砂硬度很高，会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除，会影响太阳电池的填充因子。②氢氧化钠俗称烧碱，是在国民经济生产中大量应用化工产品。由电解食盐水而得，价格比较便宜，显影清洗台，每500克6元。化学反应方程式为：2NaCl + 2H2O ==通电== 2NaOH + Cl2↑ + H2↑ 。分析纯氢氧化锂、氢氧化钾也可以与硅起反应，但价格较贵。如氢氧化锂每500克23元，用于镉-镍电池电解液中。③碱性腐蚀优点是反应生成物无毒，不污染空气和环境。不像HF-HNO3酸性系统会生成有毒的NOx气体污染大气。另外，碱性系统与硅反应，基本处于受控状态。有利于大面积硅片的腐蚀，可以保证一定的平行度。

超声波清洗机在各个行业的应用

光学、光电、光伏行业：

需要清洗的产品：光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等

污染源1：研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘

污染源2：尘垢、盐、手垢

使用清洗剂1：**性洗涤剂，清洗，醇类(丙酮等)

使用清洗剂2：碱性洗涤剂，酸性洗涤剂，中性洗涤剂，纯水