无锡硅片清洗机_苏州晶淼半导体 在线咨询 _硅片清洗

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，硅片清洗，包括**物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。**污染包括光刻胶、**溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，硅片清洗工艺，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、**胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

超声波清洗机的应用

金融、造币行业：

需要清洗的产品：图章、受理号码牌子、硬币、高级瓷器、金/银制品等

污染源：手垢、灰尘、指纹、脏污

使用清洗剂：中性洗涤剂、碱性洗涤剂；纯水

印刷/制版行业：

需要清洗的产品：旋转机、金属板、铅字、母字、药用小玻璃瓶、照相底版、金属底盘等

污染源：油墨、指纹、油、染料

使用清洗剂：轻油（石油系洗涤剂）；碱性洗涤剂、中性洗涤剂