SPM清洗机、苏州晶淼半导体、清洗

硅片清洗物理清洗 

　物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗：是用液体喷射片子表面，喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用，清洗，片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用，SPM清洗机，靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗：超声波声能传入溶液，靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是，从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到**高频频段，清洗效果更好。

超声波清洗机酿造/制药工业：

需要清洗的产品：瓶、盖子、标签去除装置、排气装置、处理器皿、处理用器具、充填装置管道等

污染源：残剩食物、指纹、灰尘、线头、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、润滑油、硅油

使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂；**洗涤剂；纯水