江阴晶圆腐蚀设备、苏州晶淼半导体、腐蚀设备

湿法清洗 ：

      湿法清洗采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、**物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有RCA清洗法、稀释化学法、 IMEC清洗法、单晶片清洗等。

清洗安全操作规范：

(1)**废液和无机废液要回收严格分开，江阴晶圆腐蚀设备，放入不同密封箱里；

(2)丙酮、异丙醇和去胶液的温度已经固定，苏州清洗腐蚀设备，不得随意更改。如确有需要，腐蚀设备，向领班汇报，等待上级批准；

(3)硫酸和双氧水混合溶液一定要等到冷却到30°C以下才能回收；

(4)溶液配制或回收时，溅到操作台上的溶液一定要用水冲干净，再用氮气*枪吹干，保持工作台的清洁、干净。