酸腐蚀清洗设备-苏州晶淼半导体(在线咨询)-扬州腐蚀

   RCA清洗法:自从20世纪70年代RCA清洗法问世之后，几十年来被广泛采用。它的基本步骤初期只包括碱性氧化和酸性氧化两步，但目前使用的RCA清洗大多包括四步，即先用含硫酸的酸性进行酸性氧化清洗，再用含胺的弱碱性进行碱清洗，接着用稀的qing氟酸溶液进行清洗，然后用含盐酸的酸性进行酸性氧化清洗，酸腐蚀清洗机，在每次清洗中间都要用**纯水（DI水）进行漂洗，酸腐蚀清洗台，然后再用低沸点进行干燥。

半导体硅（芯）片清洗机：

      该设备主要用于清除硅（芯）片表面的废屑、金属离子等物质，扬州腐蚀，是硅（芯）片生产过程中重要工序。设备主要技术特点：1.可靠的控制系统；2.触摸屏控制显示 ；3.可设置和存储工艺菜单；4.高压去离子水泵5.喷头H轴Y轴调节6.在线电阻率检测水质；7.清洗后高纯氮气干燥模块；8.自动排水装置；9.对硅片定位框架的安全定位。

清洗的注意事项：

(1)关机重启后，时间间隔1分钟以上，否则可能会造成电气损坏；

(2)设备运行中，酸腐蚀清洗设备，注意去离子水流量不得**过允许值，否则可能由于排放受阻而造成机器损坏；

(3)每次运行完毕后取出片子时，注意卡塞口是否朝上，纠正后再取出，否则片子会掉出来；

(4)一旦发现水路的关联件出现“漏水”、“滴水”现象应立即关机，检修后再运行。