苏州晶淼半导体(图)-硅片刻蚀台-无锡硅片

硅片清洗 化学清洗

 　化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，方法较多，无锡硅片，有溶剂萃取、酸洗（硫酸、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，将**物分解而除去；用**纯水冲洗后，再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗，由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，硅片腐蚀机，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。

也许大家对清洗机这样一种设备并不是很了解，但它却是在我们的生活中经常用到，下面为大家介绍一下清洗机的主要用途。

　　1、**、航空——清洗精密零部件。电子线路板，飞机轮毂，刹车系统、空调热交换器，轴承，各种金属件。

　　2、铁路——各种闸阀，制动阀，减震器，轴承套件，客车，冷藏车制冷系统的冷凝器，散热器，机车内燃机零、部件，电器零、部件。

　　3、汽车、摩托车制造业——缸体，盖，转向机构，减震器及各种机加工零件，底盘，轮毂电泳前的除油、除锈、除氧化皮。

　　4、光学器件——照相机镜头，显微镜，望远镜，眼镜，硅片刻蚀台，钟表玻璃，光学透镜的研磨后，镀膜前清洗。

　　5、液晶(LCD)制造——LCD基板镀ITO膜前清洗，LCD基片刻蚀，灌注液晶的前道，后道工序清洗。

　　6、电子制造、通讯、计算机——SMT贴片，PCB板焊接后的助焊剂，杂质清洗。

　　7、微电子——单晶硅片，集成电路制造的工序过程清洗。

　　8、电子电器元器件——各种电阻，电容，电子器件，磁器件，低压电器制品的清洗。

　　9、五金冲压件——各种五金制品的冲压后除油、除锈、除氧化物、除污等清洁。

　　10、机械的零件——各种精密加工金属零件的除油、除屑、除锈、除氧化物、除污等清洁。

清洗机

清洗机，硅片刻蚀机，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或侵入的污染物；也可以适用于对工作油液的定期维护过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证液压系统设备的性能、高可靠度和**命。

超声波清洗机是一种利用超声波空化这一科学技术，通过超声换能器振动发射的原理，较好地清洁附着于物品上的污垢、油垢、沉淀物等脏物，清洗效果明显直观，是集冲洗、清洁、杀菌为一体的全超声波清洗。