硅片腐蚀利用氢氧化钠对多晶硅腐蚀作用,去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层,同时利用氢氧化钠对硅腐蚀的各向异性,清洗机哪家好,争取表面较低反射率较低的表面织构。解释:①现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片,显影清洗机,金刚砂硬度很高,会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除,会影响太阳电池的填充因子。②氢氧化钠俗称烧碱,是在国民经济生产中大量应用化工产品。由电解食盐水而得,价格比较便宜,显影清洗台,每500克6元。化学反应方程式为:2NaCl + 2H2O ==通电== 2NaOH + Cl2↑ + H2↑ 。分析纯氢氧化锂、氢氧化钾也可以与硅起反应,但价格较贵。如氢氧化锂每500克23元,用于镉-镍电池电解液中。③碱性腐蚀优点是反应生成物无毒,不污染空气和环境。不像HF-HNO3酸性系统会生成有毒的NOx气体污染大气。另外,碱性系统与硅反应,基本处于受控状态。有利于大面积硅片的腐蚀,可以保证一定的平行度。
超声波清洗机在各个行业的应用
光学、光电、光伏行业:
需要清洗的产品:光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等
污染源1:研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘
污染源2:尘垢、盐、手垢
使用清洗剂1:**性洗涤剂,清洗,醇类(丙酮等)
使用清洗剂2:碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂,纯水